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【百家大講堂】中國工程院院士吳漢明作“中國芯”制造面臨挑戰(zhàn)和機會的主題報告


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12月14日下午,由北京理工大學主辦、信息與電子學院和??茀f(xié)共同承辦的北理工“百家大講堂”(第339期)在信息科學實驗樓202報告廳舉行。中國工程院院士吳漢明應(yīng)邀作了“中國芯”制造面臨挑戰(zhàn)和機會的精彩報告。信息與電子學院、??茀f(xié)負責人及師生共200多人參加了本次報告會。講座由信息與電子學院副院長陳禾主持。

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副校長龍騰為吳漢明院士頒發(fā)了北理工“百家大講堂”紀念證書。

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吳漢明院士首先介紹了芯片制造的主要工藝流程,隨后從摩爾定律出發(fā),分析了芯片代工技術(shù)的發(fā)展歷程和面臨的三大挑戰(zhàn),著重闡述了先進光刻工藝技術(shù)的原理和成套工藝技術(shù)能力的重要性。最后,他講解了后摩爾時代的特征和技術(shù)發(fā)展方向以及我國芯片制造產(chǎn)業(yè)的機遇和發(fā)展思路。

吳漢明系統(tǒng)講解了我國集成電路產(chǎn)業(yè)的大背景、瓶頸、技術(shù)方法以及未來發(fā)展方向,更讓大家感受到了科學家執(zhí)著的探索精神和深厚的科學造詣。同時,也深刻地認識到了在目前復(fù)雜的國際形勢下,我國集成電路領(lǐng)域面臨的多重挑戰(zhàn)。


【主講人簡介】

吳漢明,中國工程院院士,浙江大學微納電子學院院長。芯創(chuàng)智(北京)微電子有限公司董事長。

吳漢明院士,1976年畢業(yè)于中國科學技術(shù)大學;1987年畢業(yè)于中國科學院力學研究所,獲博士學位。曾在美國UC-Berkeley進行博士后研究,并先后入職Intel、中芯國際等公司作為技術(shù)骨干從事集成電路制造工藝研發(fā),曾任中芯國際研發(fā)副總裁。

吳漢明院士長期工作在我國集成電路產(chǎn)業(yè)鏈重要環(huán)節(jié),并作出突出貢獻。主持、指導(dǎo)了包括國家重大專項的0.13微米至14納米七代芯片工藝研發(fā),負責攻克了包括刻蝕等一系列關(guān)鍵工藝難點,工藝集成后實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。突破了長期以來我國高端芯片工藝完全依賴進口的制約,與世界水平差距明顯縮小。負責我國首臺刻蝕機研發(fā)項目的理論工作,并成功產(chǎn)業(yè)化。建立的非平衡低溫等離子體混合模型/整體模型成為工藝理論依據(jù),并作為教案被世界著名大學公開發(fā)行的教科書采用。發(fā)表著作論文116篇。授權(quán)發(fā)明專利67項。曾獲得“北京學者”“十佳全國優(yōu)秀科技工作者” 和“全國杰出專業(yè)技術(shù)人才”等榮譽。作為主要成員,三次獲國家科技二等獎,多次獲省部科技獎。