第三屆國際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會在北理工召開
發(fā)布日期：2018-10-11 供稿：光電學(xué)院 攝影：黨委宣傳部 徐思軍
編輯：盛筠 審核：鄒銳 閱讀次數(shù)：
國際半導(dǎo)體行業(yè)知名企業(yè)美國KLA-Tencor公司與北京理工大學(xué)共同主辦的第三屆國際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會于9月27日在北京理工大學(xué)國際教育交流大廈召開。來自國內(nèi)和美國相關(guān)企業(yè)、科研院所和高校的光刻技術(shù)領(lǐng)域的專家、學(xué)者40多人參加了本次會議。
會議由KLA-Tencor公司的高級主管Patrick Lee先生和北京理工大學(xué)光電學(xué)院李艷秋教授共同主持。北京理工大學(xué)光電學(xué)院副院長楊亞楠等領(lǐng)導(dǎo)致歡迎辭。Patrick Lee先生、技術(shù)主管Stewart Robertson先生和李艷秋教授團隊李鐵等為大會作七項報告。報告介紹了該公司在DUV和EUV光刻仿真和光刻性能表征控制等領(lǐng)域的最新研發(fā)進展。北京理工大學(xué)概述了李艷秋團隊主持并驗收的多項國家科技重大專項課題成果，重點是北理工承擔(dān)的"十三五”國家科技重大專項課題在14-7nm 節(jié)點DUV 和EUV 先進光刻機光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計和像質(zhì)檢測技術(shù)、14-7nm 技術(shù)節(jié)點需要的光刻機設(shè)備/掩模/工藝與新型計算光刻的協(xié)同設(shè)計優(yōu)化技術(shù)等方面取得的先進成果。
會議期間，參會者進行了深入的技術(shù)交流與討論。本屆會議進一步擴大了我校在相關(guān)領(lǐng)域的國內(nèi)外影響，促進了企業(yè)與高?？?、研院所在該技術(shù)領(lǐng)域的深入合作，持續(xù)推動了我校開展內(nèi)外的產(chǎn)、學(xué)、研實質(zhì)性合作及人才培養(yǎng)。
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